[发明专利]基板的显影处理方法及基板的显影处理装置

摘要

本发明提供一种方法，其消除了在基板上的显影液置换为清洗液时，显影液在基板表面内不同的位置产生浓度差的问题，并可防止在抗蚀膜表面上产生污垢状缺陷的问题，还可减少显影液用量。其通过旋转卡盘将基板保持在水平姿势，并通过旋转电动机使其绕铅直轴周围旋转的同时，从喷嘴喷出显影液向基板表面的抗蚀膜上供给显影液而进行显影处理，然后，继续使基板旋转，通过离心力使抗蚀膜上的显影液飞散而除去，接下来，从喷嘴喷出纯水向抗蚀膜上供给清洗液进行清洗处理。

主权项

1.一种基板的显影处理方法，其包括，显影工序，该显影工序在使基板以水平姿势绕铅直轴周围旋转的同时，向形成于基板表面上的曝光后的抗蚀膜上供给显影液以对抗蚀膜进行显影处理；清洗工序，该清洗工序在使基板以水平姿势绕铅直轴周围旋转的同时，向形成于基板表面上的显影处理后的抗蚀膜上供给清洗液以进行清洗处理；及干燥工序，该干燥工序使基板以水平姿势绕铅直轴周围旋转，使形成于基板表面上的清洗处理后的抗蚀膜干燥，其特征在于，在上述显影工序后，具有继续使基板以水平姿势绕铅直轴周围旋转，通过离心力使基板表面上的显影液飞散而除去的显影液除去工序，在该显影液除去工序后进行上述清洗工序。