[发明专利]液晶显示器的像素结构的制造方法有效
| 申请号： | 200710161745.6 | 申请日： | 2007-09-25 |
| 公开（公告）号： | CN101131521A | 公开（公告）日： | 2008-02-27 |
| 发明（设计）人： | 李振岳 | 申请（专利权）人： | 友达光电股份有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1362 | 分类号： | G02F1/1362;H01L27/12;H01L21/027;H01L21/203;H01L21/00;G03F7/00 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人： | 任默闻 |
| 地址： | 台湾省*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明是一种一液晶显示器的像素结构的制造方法。于像素结构的制造工艺中，相较于现有的七道掩膜制造工艺，本发明仅须使用四道掩膜制造工艺，故可大幅降低制造成本；此外，于制造过程中，可一并清除显示区域上不必要的多层结构，以提升其透光度。 | ||
| 搜索关键词： | 液晶显示器 像素 结构 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种液晶显示器的像素结构的制造方法，该液晶显示器具有一基板，该基板上定义有复数像素区域及复数接垫区域，各所述的像素区域包含一控制区域及一电容区域，该方法包含下列步骤：于所述的控制区域上，形成一薄膜晶体管结构，及于所述的电容区域上，形成一电容结构，其中该薄膜晶体管结构具有一第一导电部分，该电容结构具有一第二导电部分；形成一中间介电层，覆盖所述的薄膜晶体管结构、所述的电容结构、及所述的接垫区域上的一接垫结构；形成一透明电极层，覆盖所述的中间介电层；移除部分所述的透明电极层与中间介电层，以暴露部分所述的第一导电部分、第二导电部分、及所述的接垫结构；形成一金属层，电性连接所述的第一导电部分、第二导电部分、及所述的接垫结构的暴露部分；以及形成一保护层，覆盖于所述的金属层上，部分暴露所述的透明电极层于所述的电容区域上。
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