[发明专利]活塞环表面涂覆氮化硅膜层的方法

摘要

本发明公开了一种活塞环表面涂覆氮化硅膜层的方法。先对活塞环进行电解抛光和超声波清洗处理；再将清洗后的活塞环放入射频等离子体增强化学气相沉积设备中，系统抽真空至5×10^－3Pa，以硅烷和氨气为反应气源，在硅烷流量15～45sccm、硅烷和氨气流量比1/2～1/4、沉积温度300～500℃、射频功率90～150W的条件下，沉积10～30min停止，在活塞环的上表面和侧面得到氮化硅膜层；自然冷却后取出。所得氮化硅膜层活塞环的表面硬度可达900－1400HV，明显高于普通镀铬产品800HV的硬度。膜层良好的耐蚀耐磨性能和自润滑特性，可有效提高活塞环的使用性能，改善工作稳定性，延长寿命。该方法克服了传统镀铬活塞环能耗大、污染严重、工艺复杂等弊端。

主权项

1.一种活塞环表面涂覆氮化硅膜层的方法，其特征在于：沉积前，对活塞环进行电解抛光和超声波清洗处理；前处理完成后，再将活塞环放入射频等离子体增强化学气相沉积设备的沉积室中，系统抽真空至5×10-3Pa，以硅烷和氨气为反应气源，在硅烷流量15～45sccm、硅烷和氨气流量比1∶2～1∶4、沉积温度300～500℃、射频功率90～150W的条件下，沉积10～30min停止，在活塞环的上表面和侧面均匀沉积一层氮化硅膜层；自然冷却后取出。