[发明专利]用于光掩模刻蚀的终点检测无效
| 申请号： | 200710165355.6 | 申请日： | 2007-10-26 |
| 公开（公告）号： | CN101174082A | 公开（公告）日： | 2008-05-07 |
| 发明（设计）人： | 迈克尔·格里伯根 | 申请（专利权）人： | 应用材料股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/00 | 分类号： | G03F1/00;G03F7/36;G03F7/00;H01L21/00 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 | 代理人： | 徐金国;梁挥 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明提供了用于光掩模刻蚀的终点检测的装置和方法。该装置提供具有衬底支撑构件的等离子体刻蚀腔室。该衬底支撑构件具有用于终点检测的在其中设置的至少两个光学部件。通过使用为在光掩模的不同位置处监控的不同的光测量技术而实现用于光掩模刻蚀的改进的工艺监控。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 光掩模 刻蚀 终点 检测 | ||
【主权项】：
1.一种用于衬底刻蚀的装置，包括：等离子体刻蚀腔室；在所述腔室内并配置为保持光掩模版的衬底支撑构件，该衬底支撑构件具有设置在中心区域的第一窗口以及设置在外围区域的第二窗口，该中心区域和外围区域对应于所述掩模版的中心和外围区域；以及终点检测系统，其可通过所述第一窗口和第二窗口运动耦合至所述腔室。
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