[发明专利]使用牺牲材料制造微器件无效
| 申请号： | 200710167609.8 | 申请日： | 2007-04-18 |
| 公开（公告）号： | CN101214917A | 公开（公告）日： | 2008-07-09 |
| 发明（设计）人： | 潘晓和 | 申请（专利权）人： | 视频有限公司 |
| 主分类号： | B81C1/00 | 分类号： | B81C1/00 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 陈炜 |
| 地址： | 美国加*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 一种制造可倾斜微镜面的方法，包括：形成包含上表面和与上表面相连的铰链支柱的基板；在该基板上沉积选自由聚芳撑、聚芳醚和硅倍半氧烷化氢构成的组中的第一牺牲材料；在第一牺牲材料上沉积一层或多层结构材料；在一层或多层结构材料中形成开口，其中该开口能够提供从外界到在一层或多层结构材料下面的第一牺牲材料的通道；和除去第一牺牲材料，以形成与铰链支柱相连的可倾斜微镜面。 | ||
| 搜索关键词： | 使用 牺牲 材料 制造 器件 | ||
【主权项】：
1.一种制造微结构的方法，包括：形成包含具有第一高度的第一结构部分和具有比第一高度高的第二高度的第二结构部分的基板；在基板上沉积第一牺牲材料，其中第一牺牲材料是从由聚芳撑、聚芳醚和硅倍半氧烷化氢构成的组中选择的，并且其中牺牲材料覆盖至少第一结构部分；在第一牺牲材料上沉积第一结构材料层；在第一结构材料层中形成一开口，其中该开口提供了从外界到在第一结构材料层下面的第一牺牲材料的通道；和除去第一牺牲材料，以形成与第二结构部分相连的第三结构部分，其中第三结构部分的至少一部分在第一结构部分之上。
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