[发明专利]氮化物半导体发光器件无效
申请号: | 200710169305.5 | 申请日: | 2007-11-22 |
公开(公告)号: | CN101188262A | 公开(公告)日: | 2008-05-28 |
发明(设计)人: | 驹田聪 | 申请(专利权)人: | 夏普株式会社 |
主分类号: | H01L33/00 | 分类号: | H01L33/00 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人: | 葛青 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明公开了一种氮化物半导体发光器件,所述器件包括衬底,以及形成在所述衬底上的第一n型氮化物半导体层、发光层、第一p型氮化物半导体层、第二p型氮化物半导体层、p型氮化物半导体隧道结层、n型氮化物半导体隧道结层和第二n型氮化物半导体层,所述p型氮化物半导体隧道结层和所述n型氮化物半导体隧道结层形成了隧道结,并且所述p型氮化物半导体隧道结层具有比所述第二p型氮化物半导体层的铟含量比率更高的铟含量比率。所述p型氮化物半导体隧道结层和所述n型氮化物半导体隧道结层中的至少一个包括铝。 | ||
搜索关键词: | 氮化物 半导体 发光 器件 | ||
【主权项】:
1.一种氮化物半导体发光器件,包括:衬底;形成在所述衬底上的第一n型氮化物半导体层;形成在所述第一n型氮化物半导体层上的发光层;形成在所述发光层上的第一p型氮化物半导体层;形成在所述第一p型氮化物半导体层上的第二p型氮化物半导体层;形成在所述第二p型氮化物半导体层上的p型氮化物半导体隧道结层;形成在所述p型氮化物半导体隧道结层上的n型氮化物半导体隧道结层;形成在所述n型氮化物半导体隧道结层上的第二n型氮化物半导体层;以及其中所述p型氮化物半导体隧道结层和所述n型氮化物半导体隧道结层形成隧道结,并且所述p型氮化物半导体隧道结层具有比所述第二p型氮化物半导体层的铟含量比率更高的铟含量比率。
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