[发明专利]利用处理液除去基板的光刻胶并用臭氧处理处理液无效
| 申请号： | 200710170189.9 | 申请日： | 2007-10-23 |
| 公开（公告）号： | CN101169599A | 公开（公告）日： | 2008-04-30 |
| 发明（设计）人： | 洪瑄英;朴弘植;郑钟铉;金俸均;申原硕;李炳珍;任太彬 | 申请（专利权）人： | 三星电子株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/42 | 分类号： | G03F7/42 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 马高平 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明涉及利用处理液除去基板的光刻胶并用臭氧处理处理液。当处理液被喷射到基板上时，倾斜基板以从基板上除去光刻胶。因此使用处理液均匀地处理基板以及收集处理液变得很方便。收集的处理液通过臭氧进行处理然后再使用。 | ||
| 搜索关键词： | 利用 处理 除去 光刻 并用 臭氧 | ||
【主权项】：
1.一种去除光刻胶的装置，该去除光刻胶的装置包括：腔室，包括用于向位于该腔室内的基板上喷射处理液以除去光刻胶的喷嘴；用于传送基板经过所述腔室的传送装置，该基板在所述腔室内倾斜；用于将臭氧提供给喷射到所述基板上的处理液的臭氧反应器；以及用于从处理液去除臭氧的除气单元。
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