[发明专利]薄型护足垫有效
申请号: | 200710170239.3 | 申请日: | 2007-11-15 |
公开(公告)号: | CN101204259A | 公开(公告)日: | 2008-06-25 |
发明(设计)人: | 小佐佐能彦 | 申请(专利权)人: | 兴和株式会社 |
主分类号: | A43B17/00 | 分类号: | A43B17/00 |
代理公司: | 北京市中咨律师事务所 | 代理人: | 段承恩;陈海红 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提供一种薄型护足垫。在该护足垫中,为了从脚尖部后端附近经足弓部遍及至脚跟部前端附近对人的脚掌进行支持,实现良好的穿着感,作为垫的材料由更加柔软的透明弹性材料构成,而且在垫前部以及中央部设有平面,将与足弓部附近相对应的垫中央部的隆起设为较小、其周边也由平缓的倾斜构成。 | ||
搜索关键词: | 薄型护足垫 | ||
【主权项】:
1.一种薄型护足垫,用于从脚尖部后端附近经足弓部遍及至脚跟部前端附近对人的脚掌进行支撑,实现良好的穿着感,其特征在于,由具有5度以上20度不满的硬度的柔软的透明弹性材料形成,在与脚尖部后端相对应的垫前部上形成平坦的脚尖平面部,而且在与足弓部附近相对应的垫中央部上形成平坦的足弓平面部,同时从该足弓平面部的内侧端到垫的内侧边缘形成有内侧倾斜面、从该足弓平面部的后侧端到垫的后侧边缘形成有后侧倾斜面、从该足弓平面部的外侧端到垫的外侧边缘形成有外侧倾斜面、从该足弓平面部的前侧端到所述脚尖平面部的后侧边缘形成有前侧倾斜面,其中,所述脚尖平面部具有1mm至2mm的最小高度,并且所述足弓平面部具有4mm至6mm的最大高度,所述内侧倾斜面具有6°至9°的斜度,所述后侧倾斜面具有8°至11°的斜度,所述外侧倾斜面具有7°至10°的斜度,所述前侧倾斜面具有7°至10°的斜度。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于兴和株式会社,未经兴和株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200710170239.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:溅射磁控管
- 下一篇:模压全息图纹形成方法