[发明专利]中心对称连续微结构衍射元件掩模的制作方法无效
| 申请号： | 200710170464.7 | 申请日： | 2007-11-15 |
| 公开（公告）号： | CN101192000A | 公开（公告）日： | 2008-06-04 |
| 发明（设计）人： | 王多书;刘宏开;叶自煜;罗崇泰;熊玉卿;陈焘;马勉军 | 申请（专利权）人： | 中国航天科技集团公司第五研究院第五一○研究所 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00;G03F1/00;G02B3/00;G02B5/00 |
| 代理公司： | 上海蓝迪专利事务所 | 代理人： | 徐筱梅 |
| 地址： | 73003*** | 国省代码： | 甘肃;62 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种中心对称连续微结构衍射元件掩模的制作方法，它包括基片清洗；光刻胶版制作；能量程序文件形成；激光曝光；显影；坚模等步骤；本发明采用激光直写技术对光刻胶版表面光刻胶进行定位定量曝光，显影后在光刻胶层形成连续微结构，经过加热处理后形成掩模。其特点是：制作精度高，制作周期短，制作过程简单，制作成本低等。特别适合于轻质、高性能中心对称连续微结构衍射元件掩模的制作。 | ||
| 搜索关键词： | 中心对称 连续 微结构 衍射 元件 制作方法 | ||
【主权项】：
1.一种中心对称连续微结构衍射元件掩模的制作方法，其特征在于它包括以下具体步骤：a、基片清洗选石英玻璃为基片，在重铬酸钾与浓硫酸的混合溶液中浸泡3～5小时；去离子水冲洗；甩干，置于烘干机中烘烤，室温冷却；b、光刻胶版制作采用旋涂法给基片涂光刻胶，形成光刻胶版，胶厚0.5～2um；c、能量程序文件形成按掩模的设计数据，用激光能量与刻写半径和刻写深度的关系计算激光能量并编写程序，形成能量程序文件；d、激光曝光将上述光刻胶版吸附于激光直写设备上，调节设备旋转台的旋转中心与光刻胶版的中心保持一致，开启激光直写设备，在能量程序文件控制下对光刻胶版自动曝光；e、显影将完成曝光的光刻胶版放入显影液中显影；f、坚模将显影后的光刻胶版置于真空干燥箱烘烤，室温冷却，掩模制作结束。
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