[发明专利]一种对准装置与对准方法、像质检测方法无效
| 申请号： | 200710170540.4 | 申请日： | 2007-11-16 |
| 公开（公告）号： | CN101158818A | 公开（公告）日： | 2008-04-09 |
| 发明（设计）人： | 韦学志 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F9/00 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所 | 代理人： | 屈蘅;李时云 |
| 地址： | 201203上海市*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种光刻机中掩模与工件台对准的对准装置，一次对准至少四个标记，即可确定一个基本对准位置。与现有技术相比，对准标记所需进行的运动行程也进一步减小，这样进一步减少了对准所用的时间开销，提高了系统工作效率。同时，对准的信号处理方式多样，可以得到不同的对准精度，这样可以根据用户的需要，选择不同的对准信号处理策略，以兼顾对准精度和对准效率两个方面的更进一步的优化。并且可以实现对像质的检测。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 对准 装置 方法 质检 | ||
【主权项】：
1.一种对准装置，包括对准照明系统、掩模、投影物镜和设置在工件台上的基准板，所述掩模与基准板分别置于所述投影物镜两侧，其特征在于：所述对准装置还包括：不少于3个掩模标记；与所述掩模标记数量相同的基准标记；检测器；和与所述掩模标记数量相同的照明系统；所述掩模标记位于所述掩模上；所述基准标记位于所述基准板上；所述检测器位于所述基准标记下方；所述对准照明系统分别位于掩模标记上方。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海微电子装备有限公司，未经上海微电子装备有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200710170540.4/，转载请声明来源钻瓜专利网。
