[发明专利]液晶显示装置断线的修复方法无效
申请号: | 200710170637.5 | 申请日: | 2007-11-20 |
公开(公告)号: | CN101441335A | 公开(公告)日: | 2009-05-27 |
发明(设计)人: | 秦锋 | 申请(专利权)人: | 上海广电NEC液晶显示器有限公司 |
主分类号: | G02F1/13 | 分类号: | G02F1/13;G01R31/00 |
代理公司: | 上海智信专利代理有限公司 | 代理人: | 薛 琦 |
地址: | 201108上*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明涉及一种液晶显示装置断线的修复方法,该液晶显示装置中包括第一绝缘层和第二绝缘层,位于第一绝缘层中间的第一导电层,第一绝缘层与第二绝缘层之间具有第二导电层,位于第二绝缘层一边上具有第三导电层,其中,其修复方法包括以下步骤:步骤a,利用检测设备检测第二导电层中断线发生的位置;步骤b,在保护性气体的保护下对第二导电层断线区域上方进行沉积导电层的淀积;步骤c,在完成阵列基板和彩膜基板制造之后,利用激光聚焦熔接将沉积导电层和第二导电层导通。本发明修复方法在阵列制作过程中断线不良发生后通过沉积导电层和破坏绝缘膜而使断线金属及在上方局部制作的沉积导电层电气导通,从而提高产品良品率。 | ||
搜索关键词: | 液晶 显示装置 断线 修复 方法 | ||
【主权项】:
1. 一种液晶显示装置断线的修复方法,该液晶显示装置中包括第一绝缘层和第二绝缘层,位于第一绝缘层中间的第一导电层,第一绝缘层与第二绝缘层之间具有第二导电层,位于第二绝缘层一边上具有第三导电层,其特征在于,其修复方法包括以下步骤:步骤a,利用检测设备检测第二导电层中断线发生的位置;步骤b,在保护性气体的保护下对第二导电层断线区域上方进行沉积导电层的淀积;步骤c,在完成阵列基板和彩膜基板制造之后,利用激光聚焦熔接将沉积导电层和第二导电层导通。
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