[发明专利]填充型亚波长导模共振滤光片的制备方法无效
| 申请号： | 200710171361.2 | 申请日： | 2007-11-29 |
| 公开（公告）号： | CN101178454A | 公开（公告）日： | 2008-05-14 |
| 发明（设计）人： | 张大伟;黄元申;倪争技;庄松林 | 申请（专利权）人： | 上海理工大学 |
| 主分类号： | G02B5/20 | 分类号： | G02B5/20;G03F7/00 |
| 代理公司： | 上海光华专利事务所 | 代理人： | 宁芝华 |
| 地址： | 200093*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 填充型亚波长导模共振滤光片的制备方法，首先在石英基片上采用掩模光刻和反应离子束蚀刻的方法制作初始的空气填充型亚波长光栅，然后以它为基片进行镀膜和刻蚀，其特点是：a)用物理真空沉积方法镀膜，膜的材料为光栅槽里待填充的材料，膜的厚度为亚波长光栅槽深的2倍；b)用反应离子束刻蚀镀膜后的滤光片，刻蚀厚度为亚波长光栅槽深的2倍。本发明要在纳米尺度的光栅槽内填充厚度精确到纳米量级的材料，无疑是该类滤光片中制备难度最大的一种。本发明结合镀膜技术和蚀刻技术，提供一种实际可行的刻蚀制备方法，使用该方法，可以方便地制备出填充型亚波长导模共振滤光片。 | ||
| 搜索关键词： | 填充 波长 共振 滤光 制备 方法 | ||
【主权项】：
1.填充型亚波长导模共振滤光片的制备方法，首先在石英基片上采用掩模光刻和反应离子束蚀刻的方法制作初始的空气填充型亚波长光栅，然后以它为基片进行镀膜和刻蚀，其特征在于：A)用物理真空沉积方法镀膜，膜的材料为光栅槽里待填充的材料，膜的厚度为亚波长光栅槽深的2倍；B)用反应离子束刻蚀镀膜后的滤光片，刻蚀厚度为亚波长光栅槽深的2倍。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海理工大学，未经上海理工大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200710171361.2/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：液晶显示器
- 下一篇：一种纤维无纺布果蔬保鲜膜系列制品
