[发明专利]一种散射条生成方法有效
申请号: | 200710171572.6 | 申请日: | 2007-11-30 |
公开(公告)号: | CN101452205A | 公开(公告)日: | 2009-06-10 |
发明(设计)人: | 刘娟 | 申请(专利权)人: | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
主分类号: | G03F1/14 | 分类号: | G03F1/14;G03F1/00 |
代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所 | 代理人: | 屈 蘅;李时云 |
地址: | 2012*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明提供了一种散射条的生成方法,它主要应用于提高隔离或半隔离图案的光刻质量。它包括以下步骤:1:在光掩膜板主图形中均插入预设参数值的散射条;2:判定插入的散射条中桥接在一起的散射条各自的影响因子,并对其影响因子进行大小的排序;3:修正桥接在一起的影响因子最小的散射条,直至它不与其他影响因子比其大的散射条相接;步骤4:进一步检测剩下的散射条是否仍然有桥接在一起的散射条,如果有则返回到步骤3,如果没有则停止对散射条的修正。采用本发明的散射条的生成方法,可有效解决目前的散射条生成方法中重要的散射条被随机性缩短或去除影响光刻质量的问题。 | ||
搜索关键词: | 一种 散射 生成 方法 | ||
【主权项】:
1、一种散射条的生成方法,它是在隔离或半隔离的光掩膜板主图形中插入散射条,其特征在于,它包括以下步骤:步骤1:在光掩模板主图形中均插入预设参数值的散射条;步骤2:判定插入的散射条中桥接在一起的散射条各自的影响因子,并对其影响因子进行大小的排序;步骤3:修正桥接在一起的影响因子最小的散射条,直至它不与其他影响因子比其大的散射条相接;步骤4:进一步检测剩下的散射条是否仍然有桥接在一起的散射条,如果有则返回到步骤3,如果没有则停止对散射条的修正。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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