[发明专利]一种散射条生成方法有效

专利信息
申请号: 200710171572.6 申请日: 2007-11-30
公开(公告)号: CN101452205A 公开(公告)日: 2009-06-10
发明(设计)人: 刘娟 申请(专利权)人: 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
主分类号: G03F1/14 分类号: G03F1/14;G03F1/00
代理公司: 上海思微知识产权代理事务所 代理人: 屈 蘅;李时云
地址: 2012*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明提供了一种散射条的生成方法,它主要应用于提高隔离或半隔离图案的光刻质量。它包括以下步骤:1:在光掩膜板主图形中均插入预设参数值的散射条;2:判定插入的散射条中桥接在一起的散射条各自的影响因子,并对其影响因子进行大小的排序;3:修正桥接在一起的影响因子最小的散射条,直至它不与其他影响因子比其大的散射条相接;步骤4:进一步检测剩下的散射条是否仍然有桥接在一起的散射条,如果有则返回到步骤3,如果没有则停止对散射条的修正。采用本发明的散射条的生成方法,可有效解决目前的散射条生成方法中重要的散射条被随机性缩短或去除影响光刻质量的问题。
搜索关键词: 一种 散射 生成 方法
【主权项】:
1、一种散射条的生成方法,它是在隔离或半隔离的光掩膜板主图形中插入散射条,其特征在于,它包括以下步骤:步骤1:在光掩模板主图形中均插入预设参数值的散射条;步骤2:判定插入的散射条中桥接在一起的散射条各自的影响因子,并对其影响因子进行大小的排序;步骤3:修正桥接在一起的影响因子最小的散射条,直至它不与其他影响因子比其大的散射条相接;步骤4:进一步检测剩下的散射条是否仍然有桥接在一起的散射条,如果有则返回到步骤3,如果没有则停止对散射条的修正。
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