[发明专利]一种化学机械抛光液有效
| 申请号： | 200710172365.2 | 申请日： | 2007-12-14 |
| 公开（公告）号： | CN101457124A | 公开（公告）日： | 2009-06-17 |
| 发明（设计）人： | 王晨;杨春晓 | 申请（专利权）人： | 安集微电子（上海）有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02;H01L21/304 |
| 代理公司： | 上海翰鸿律师事务所 | 代理人： | 李佳铭 |
| 地址： | 201203上海市浦东新区张江高科*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种化学机械抛光液，其含有研磨颗粒和水，其还含有具有两个或两个以上如式I所示的基团的化合物。本发明的化学机械抛光液可显著提高多晶硅去除速率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 化学 机械抛光 | ||
【主权项】：
1. 一种化学机械抛光液，其含有研磨颗粒和水，其特征在于：其还含有具有两个或两个以上如式I所示的基团的化合物。式I
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