[发明专利]基于光刻胶斜坡宽度加权的光学近似修正模型校准方法

摘要

一种基于光刻胶斜坡宽度加权的光学近似修正模型校准方法，特点是：在收集各个测量点的关键尺寸值的同时，也收集各个测量点对应的光刻胶斜坡宽度值；并应用于光学近似修正模型校准的过程中的加权步骤。本发明提供的这种基于光刻胶斜坡宽度加权的光学近似修正模型校准方法，其考虑将光刻胶斜坡宽度作为一个权重指示标志，不仅能够区分具有不同置信水平的一维和二维图形，并且可以将同维图形中具有不同置信水平的量测点区分开，且通过本方法校准得到的最优化的光学近似修正模型更加准确和稳定。

主权项

1.一种基于光刻胶斜坡宽度加权的光学近似修正模型校准方法，其特征在于，包含以下步骤：步骤1、选择若干量测点对整个光学系统及光刻制程作采样：收集各个测量点的关键尺寸值，以及各个测量点对应的光刻胶斜坡宽度值；步骤2、将各个量测点所对应的光刻胶斜坡宽度应用于加权过程，校准光学模型；步骤3、将各个量测点所对应的光刻胶斜坡宽度应用于加权过程，校准光刻胶模型；步骤4、检查量测采样点的仿真误差，如果误差在允许的范围之内，继续步骤5；如果误差不满足上述要求，返回步骤2重新校准；步骤5、模型验证工作：选取量测采样点之外的其他点，检验模型的预测能力；步骤6、如果对模型验证得到的结果在允许的误差范围之内，则继续步骤7；如果不满足要求，返回步骤2重新校准；步骤7、生成最终的最优化的光学近似修正模型，完成光学近似修正模型校准。