[发明专利]光刻设备的探测装置与探测方法

摘要

本发明公开了光刻设备的探测装置与探测方法，所述探测装置位于光刻设备中的工件高度处，其具有空间图像调制器、光能量传输光纤、光能量探测器和探测信号前置调理处理器，其中空间图像调制器由调制辐射空间图像的探测图案板、光学处理元件和光学过滤薄膜构成；空间图像探测器由量子转换薄膜、微光学处理元件、光学过滤薄膜、耦合量子转换薄膜释放光辐射的辐射探测器构成。本发明还提供了采用上述光刻设备探测装置的探测方法。通过本发明的探测装置及方法可实现大范围辐射波长和脉冲宽度的转换，提高辐射能量转换的线性度和空间图像的探测精度，从而提高光刻设备的性能和效率。

主权项

1.一种光刻设备的探测装置，置于光刻设备中工件台基准板上的工件高度处，该光刻设备具有投影系统，用于将带图案的辐射光束投射到工件目标部分以形成辐射空间图像，其特征在于，所述探测装置包括沿光线传播方向和光电转换的次序依次排列的空间图像调制器、能量传输光纤、光能量探测器和探测信号前置调理处理器，所述能量传输光纤连接空间图像调制器和光能量探测器，其中空间图像调制器由调制辐射空间图像的探测图案透射板、第一光学元件和第一光学过滤薄膜构成；所述光能量探测器由量子转换薄膜、第二光学元件、第二光学过滤薄膜、耦合量子转换薄膜释放光辐射的辐射探测器构成；所述探测图案透射板，其正面分布有数个探测图案，用于调制辐射空间图像，该辐射空间图像从所述探测图案正面入射，经过调制后从背面射出；所述第一光学元件是透镜元件或棱镜，所述第二光学元件是微光学透镜，所述量子转换薄膜沿光线传播方向，设置在微光学透镜之前或者微光学透镜和光学过滤薄膜之间；所述探测装置还包括波尔元件，其分布在相邻元件间的边缘部分。