[发明专利]一种用于半导体设备的直流电极有效

专利信息
申请号: 200710175746.6 申请日: 2007-10-11
公开(公告)号: CN101409249A 公开(公告)日: 2009-04-15
发明(设计)人: 刘利坚;彭宇霖 申请(专利权)人: 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司
主分类号: H01L21/683 分类号: H01L21/683
代理公司: 北京天昊联合知识产权代理有限公司 代理人: 张天舒;陈 源
地址: 100016北京市*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明提供了一种用于半导体设备的直流电极,包括至少两个分支电极,其中,第一分支电极包括中心导体和环形导体,其余分支电极包括环形导体,第一分支电极的环形导体与其余分支电极的环形导体间隔设置。所述中心导体的面积与每个环形导体的面积相等或大致相等。本发明提供的用于半导体设备的直流电极,其能够获得较为均匀的静电电荷分布,并因此而产生较为均匀的静电引力,进而能够在半导体加工/处理工艺中保证晶片等半导体器件的加工/处理质量。
搜索关键词: 一种 用于 半导体设备 直流 电极
【主权项】:
1.一种用于半导体设备的直流电极,包括至少两个分支电极,其中,第一分支电极包括中心导体和环形导体,其余分支电极包括环形导体,第一分支电极的环形导体与其余分支电极的环形导体间隔设置,其特征在于,所述中心导体的面积与每个环形导体的面积相等或大致相等。
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