[发明专利]一种成形微透镜列阵结构的方法无效
| 申请号： | 200710176012.X | 申请日： | 2007-10-17 |
| 公开（公告）号： | CN101144978A | 公开（公告）日： | 2008-03-19 |
| 发明（设计）人： | 杜春雷;董小春;史立芳;邓启凌 | 申请（专利权）人： | 中国科学院光电技术研究所 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00;G02B3/00 |
| 代理公司： | 北京科迪生专利代理有限责任公司 | 代理人： | 贾玉忠;卢纪 |
| 地址： | 61020*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 一种成形微透镜列阵结构的方法，其步骤为：(1)选择基底，在其表面涂布抗蚀剂层；(2)将涂有抗蚀剂层的基底进行前烘处理；(3)对三维微透镜列阵目标面形进行抽样，设计掩模；(4)采用上述设计的掩模，进行曝光；(5)将曝光后的基底进行显影和后烘；(6)通过反应离子刻蚀RIE工艺将面形传递到所述基底上。本发明可以成形各种面形以及各种口径形状的微透镜阵列，且工艺简单、效率高。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 成形 透镜 列阵 结构 方法 | ||
【主权项】：
1.一种成形微透镜列阵结构的方法，其特征在于主要由以下步骤完成：(1)选择基底，在其表面涂布抗蚀剂层；(2)将涂有抗蚀剂层的基底进行前烘处理；(3)对三维微透镜列阵目标面形进行抽样，设计掩模；(4)采用上述设计的掩模，进行曝光；(5)将曝光后的基底进行显影和后烘；(6)通过反应离子刻蚀RIE工艺将面形传递到所述基底上。
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