[发明专利]优化流道的核微孔过滤膜的制造方法

摘要

本发明公开了属于液体过滤技术领域的一种优化流道的核微孔过滤膜的制造方法。其制造方法是：利用重离子加速器或反应堆照射绝缘膜，在绝缘材料内形成辐射损伤；在绝缘薄膜材料上涂布一层溶剂型离形层；在离形层面冷复合上耐碱的带胶膜，形成一复合膜；然后在优化的蚀刻条件下，在带胶膜的保护下进行单面蚀刻，因而形成的微孔为非双锥形状；在常温下剥离离形层；在去离子水中清洗后烘干。本方法制作的微孔膜可以有10微米以上的厚度，膜上表面的微孔开孔率低于1％，下表面孔隙率高于10％，用于液体过滤时流阻小，流量大，小颗粒不易吸附，不会造成死端过滤。本发明提供的方法适合批量生产，工艺成熟，产品质量容易控制，且成本低。

主权项

1.一种优化流道的核微孔过滤膜的制造方法，其特征在于，其制作方法的步骤如下：1)用加速器加速的重离子或反应堆裂变碎片照射厚度为5～100μm的绝缘薄膜； 2)在烘道温度为40～70℃下，用涂布机在上述照射过的绝缘薄膜上涂布一层溶剂型离形剂或丙烯酸酯或纤维素多混树脂；3)在双向拉伸聚丙稀(BOPP)膜上涂布5～25μm厚的不干胶，将涂有不干胶的BOPP膜与上述经过处理的绝缘薄膜冷复合，形成复合膜； 4)在5.0～8.5N NaOH溶液中，在50～80℃下蚀刻复合膜，即单面蚀刻照射后的绝缘薄膜5～50分钟后，在绝缘薄膜上形成非双锥的微孔；5)在40℃去离子水中清洗上述蚀刻过的复合膜，清洗3次，清洗总时间10分钟；6)在常温下剥离BOPP膜，离形层将随BOPP膜被从绝缘薄膜上剥离掉，得到具有非双锥的微孔的核微孔过滤膜；7)用去离子水清洗具有非双锥的微孔的核微孔过滤膜2分钟；8)烘干：70℃下风干。