[发明专利]喷嘴及反应腔室有效
| 申请号： | 200710178735.3 | 申请日： | 2007-12-04 |
| 公开（公告）号： | CN101453822A | 公开（公告）日： | 2009-06-10 |
| 发明（设计）人： | 彭东阳 | 申请（专利权）人： | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 |
| 主分类号： | H05H1/34 | 分类号： | H05H1/34;H01L21/00 |
| 代理公司： | 北京凯特来知识产权代理有限公司 | 代理人： | 赵镇勇 |
| 地址： | 100016北京市*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种喷嘴及反应腔室，喷嘴主体内设有气体主通道，喷嘴主体的前端设有喷嘴头，喷嘴头包括中间盘、侧壁，中间盘和侧壁之间设有周边环孔，中间盘上设有多个小孔，周边环孔和多个小孔分别与气体主通道相通。喷嘴主体与喷嘴头分体设置、固定连接。喷嘴头的中间盘上的多个小孔的直径和分布密度参照反应腔室内对气体分布的均匀性要求进行设计。反应腔室设有这种喷嘴后，喷嘴中心的密集小孔减少了主通道气体直接喷向反应腔室中央的量，周边环孔能有效的增加喷射到反应腔室周边的气体的量，使反应腔室内气体分布均匀。 | ||
| 搜索关键词： | 喷嘴 反应 | ||
【主权项】：
1、一种喷嘴，包括喷嘴主体，所述喷嘴主体内设有气体主通道，其特征在于，所述喷嘴主体的前端设有喷嘴头，所述喷嘴头包括中间盘、侧壁，所述中间盘和侧壁之间设有周边环孔，所述中间盘上设有多个小孔，所述周边环孔和所述多个小孔分别与所述气体主通道相通。
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