[发明专利]涂布液以及利用该涂布液的钛酸类陶瓷膜的制造方法有效
申请号: | 200710181908.7 | 申请日: | 2007-10-12 |
公开(公告)号: | CN101161601A | 公开(公告)日: | 2008-04-16 |
发明(设计)人: | 芳仲篤也;高木大介 | 申请(专利权)人: | 株式会社ADEKA |
主分类号: | C03C17/00 | 分类号: | C03C17/00;C04B41/45;C04B41/81;C08J7/04;C23D5/02;C23D7/00 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人: | 朱黎明 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 提供了在采用湿式涂布法的钛酸类陶瓷膜的制造中,以少的涂布工序制造良好膜质的涂布液以及膜的制造方法。涂布液,以及利用该涂布液的钛酸类陶瓷膜的制造方法,该涂布液的特征在于,由下述成分(A)、(B)、(C):(A)具有至少一个钛原子以及至少一个碳数为2~12的脂肪族有机酸残基为必需的基,不包含这些以外的基的有机酸钛化合物和,(B)平均粒径为10~100nm的钛酸类化合物微粒和,(C)有机溶剂组成,上述成分(A)的含量以钛原子换算为0.1~1.5摩尔/kg,并且上述成分(B)的含量以钛原子换算为0.1~1.5摩尔/kg。 | ||
搜索关键词: | 涂布液 以及 利用 钛酸类 陶瓷膜 制造 方法 | ||
【主权项】:
1.一种涂布液,其特征在于,包括下述成分(A)、(B)、(C):成分(A):具有至少一个钛原子以及至少一个碳数为2~12的脂肪族有机酸残基为必需的基团,不包含这些以外的基团的有机酸钛化合物,成分(B):平均粒径为10~100nm的钛酸类化合物微粒,成分(C):有机溶剂,上述成分(A)的含量以钛原子换算为0.1~1.5摩尔/kg,并且上述成分(B)的含量以钛原子换算为0.1~1.5摩尔/kg。
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