[发明专利]砷化镓晶片的激光加工方法有效
申请号: | 200710181938.8 | 申请日: | 2007-10-17 |
公开(公告)号: | CN101165877A | 公开(公告)日: | 2008-04-23 |
发明(设计)人: | 古田健次 | 申请(专利权)人: | 株式会社迪思科 |
主分类号: | H01L21/78 | 分类号: | H01L21/78;B23K26/38;B23K26/40;B23K101/40 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人: | 党晓林 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供一种砷化镓晶片的激光加工方法,在通过沿着砷化镓(GaAs)晶片的间隔道照射激光光线进行烧蚀加工,来沿着间隔道切断砷化镓(GaAs)晶片时,能够使由于照射激光光线而产生的碎屑附着在切断面上。所述加工方法是沿着在砷化镓基板的表面上形成为格子状的间隔道照射激光光线,从而沿着间隔道切断砷化镓晶片的方法,其包括:晶片支承工序,将砷化镓基板的背面粘贴在保护部件上;碎屑屏蔽膜覆盖工序,在砷化镓基板的表面上覆盖碎屑屏蔽膜;激光加工槽形成工序,在砷化镓基板上从碎屑屏蔽膜侧,沿着间隔道照射激光光线,形成不到达背面的激光加工槽;以及切断工序,在砷化镓基板上沿着激光加工槽照射激光光线,形成到达背面的切断槽。 | ||
搜索关键词: | 砷化镓 晶片 激光 加工 方法 | ||
【主权项】:
1.一种砷化镓晶片的激光加工方法,其是沿着砷化镓晶片的间隔道照射激光光线,从而沿着间隔道切断砷化镓晶片的方法,所述砷化镓晶片构成为在砷化镓基板的表面上,在由形成为格子状的间隔道划分而成的多个区域中形成有器件,特征在于,所述砷化镓晶片的激光加工方法包括:晶片支承工序,将砷化镓基板的背面粘贴在保护部件上;碎屑屏蔽膜覆盖工序,在粘贴于保护部件上的砷化镓基板的表面上覆盖碎屑屏蔽膜;激光加工槽形成工序,在表面上覆盖有所述碎屑屏蔽膜的砷化镓基板上,从所述碎屑屏蔽膜侧沿着间隔道对砷化镓基板照射具有吸收性的波长的激光光线,从而沿着间隔道形成不到达背面的激光加工槽;以及切断工序,在形成了所述激光加工槽的砷化镓基板上,沿着所述激光加工槽对砷化镓基板照射具有吸收性的波长的激光光线,从而沿着所述激光加工槽形成到达背面的切断槽。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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