[发明专利]一种负性光敏聚酰亚胺材料及其制备方法有效
| 申请号： | 200710182085.X | 申请日： | 2007-10-31 |
| 公开（公告）号： | CN101423606A | 公开（公告）日： | 2009-05-06 |
| 发明（设计）人： | 胡娟;饶先花;江林 | 申请（专利权）人： | 比亚迪股份有限公司 |
| 主分类号： | C08G73/10 | 分类号： | C08G73/10 |
| 代理公司： | 北京润平知识产权代理有限公司 | 代理人： | 王凤桐;顾映芬 |
| 地址： | 518119广东省深*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 一种负性光敏聚酰亚胺材料，该材料含有具有如右结构式(I)所示结构的聚酰亚胺，其中，n/(n+m)＝0.5-1，且n与m的取值使得聚酰亚胺主链的数均分子量为20000-100000；Ar为含有芳香族四羧酸二酐的四价有机基团的芳基，R1和R2均为含有脂肪族和/或芳香族二胺的二价有机基团的基团，且Ar、R1和R2中至少其中之一具有如上结构式(II)和(III)所示结构中的一种或两种作为侧链结构，其中Y为含有碳碳双键或碳碳叁键的环氧树脂开环后的结构。本发明提供的负性光敏聚酰亚胺材料是一种具有光敏基团的感光高分子材料，光刻后图形的分辨能力能够达到0.8-1微米，能够应用于柔性电路板的盖膜、基膜以及粘接层。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光敏 聚酰亚胺 材料 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
1、一种负性光敏聚酰亚胺材料，该材料含有具有如下结构式(I)所示结构的聚酰亚胺：其中，n/(n+m)＝0.5-1，且n与m的取值使得聚酰亚胺主链的数均分子量为20000-100000；Ar为含有芳香族四羧酸二酐的四价有机基团的芳基，R1和R2均为含有脂肪族和/或芳香族二胺的二价有机基团的基团，且Ar、R1和R2中至少其中之一具有如下结构式(II)和(III)所示结构中的一种或两种作为侧链结构：其中Y为含有碳碳双键或碳碳叁键的环氧树脂开环后的结构。
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