[发明专利]显示装置和显示装置的制造方法无效

专利信息
申请号: 200710185194.7 申请日: 2007-11-12
公开(公告)号: CN101183679A 公开(公告)日: 2008-05-21
发明(设计)人: 野田刚史;贺茂尚广;新本秀明 申请(专利权)人: 株式会社日立显示器
主分类号: H01L27/12 分类号: H01L27/12;H01L21/84;G02F1/1362
代理公司: 北京市金杜律师事务所 代理人: 季向冈
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供一种显示装置,形成在基板的第一区域的第一MIS晶体管和形成在与所述第一区域不同的第二区域的第二MIS晶体管分别在所述基板和所述半导体层之间具有栅电极,所述第一MIS晶体管的所述半导体层只由非晶半导体构成,所述第二MIS晶体管的所述半导体层包括多晶半导体,所述第二MIS晶体管的栅电极比所述第一MIS晶体管的栅电极薄。在形成有半导体层为非晶半导体的MIS晶体管和半导体层包括多晶半导体的MIS晶体管的显示装置中,在各MIS晶体管采用底栅结构时,能使由多晶半导体构成的半导体层的结晶性良好。
搜索关键词: 显示装置 制造 方法
【主权项】:
1.一种显示装置,具有在基板之上层叠导电层、绝缘层和半导体层而形成的MIS晶体管,其特征在于:形成在所述基板的第一区域的第一MIS晶体管和形成在与所述第一区域不同的第二区域的第二MIS晶体管分别在所述基板和所述半导体层之间具有栅电极,所述第一MIS晶体管的所述半导体层只由非晶半导体构成,所述第二MIS晶体管的所述半导体层包括多晶半导体,所述第二MIS晶体管的栅电极比所述第一MIS晶体管的栅电极薄。
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