[发明专利]使用压印光刻的纳米结构布置的方法和系统无效
| 申请号： | 200710186936.8 | 申请日： | 2007-11-15 |
| 公开（公告）号： | CN101403853A | 公开（公告）日： | 2009-04-08 |
| 发明（设计）人： | 西奥多·G.·范·克赛尔;马修·E.·科尔博恩;伊夫·马丁 | 申请（专利权）人： | 国际商业机器公司 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 王永刚 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明提供使用压印光刻的纳米结构的布置的方法(和系统)，包括将包含具有预定特性的添加物的混合物涂敷到衬底上；使衬底和包含起伏结构的模板中的一个与所述衬底和包含起伏结构的所述模板中的另一个相互接触；将所述模板的起伏结构转印到可图案化材料中；固化或固定可图案化材料；以及去除模板，由此留下模板起伏结构的负片结构。 | ||
| 搜索关键词： | 使用 压印 光刻 纳米 结构 布置 方法 系统 | ||
【主权项】：
1.使用压印光刻的纳米结构布置方法，包括以下步骤：将包含具有预定特性的添加物的混合物涂敷到衬底上；使衬底和包含起伏结构的模板中的一个与所述衬底和包含所述起伏结构的所述模板中的另一个相互接触；将所述模板的起伏结构转印到可图案化材料中；固化或固定所述可图案化材料；以及去除模板，由此留下所述模板的所述起伏结构的负片结构。
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