[发明专利]一种监测聚酰亚胺的曝光阈值的方法无效
| 申请号： | 200710187792.8 | 申请日： | 2007-11-30 |
| 公开（公告）号： | CN101452223A | 公开（公告）日： | 2009-06-10 |
| 发明（设计）人： | 周家驹 | 申请（专利权）人： | 和舰科技（苏州）有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/30 | 分类号： | G03F7/30;G03F7/00;H01L21/66 |
| 代理公司： | 北京连和连知识产权代理有限公司 | 代理人： | 张春媛 |
| 地址： | 215025江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种监测聚酰亚胺的曝光阈值的方法，包括以下步骤：步骤1，在晶片上涂覆聚酰亚胺；步骤2，对聚酰亚胺层分别用不同的显影时间进行显影，用以测定待检测晶片表面是否剩余有聚酰亚胺；步骤3，利用膜厚量测装置再测定待检测晶片的表面是否剩余有聚酰亚胺，如有剩余聚酰亚胺，则测定聚酰亚胺残留的厚度，从而获得最小聚酰亚胺的曝光阈值。本发明的有益效果在于，通过对聚酰亚胺曝光阈值进行双重监测，即可以量化监测结果，避免原有的目视人为判断失误，可以保存量化的量测结果，以便进行统计制程控制，更准确地得到聚酰亚胺的曝光阈值。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 监测 聚酰亚胺 曝光 阈值 方法 | ||
【主权项】：
1. 一种监测聚酰亚胺的曝光阈值的方法，其特征在于包括以下步骤：步骤1，在晶片上涂覆聚酰亚胺；步骤2，对聚酰亚胺层分别用不同的显影时间进行显影，用以测定待检测晶片表面是否剩余有聚酰亚胺；步骤3，利用膜厚量测装置再测定待检测晶片的表面是否剩余有聚酰亚胺，如有剩余聚酰亚胺，则测定聚酰亚胺残留的厚度，从而获得最小聚酰亚胺的曝光阈值。
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