[发明专利]圆片级MEMS微流道的制造方法无效
申请号: | 200710190226.2 | 申请日: | 2007-11-20 |
公开(公告)号: | CN101157435A | 公开(公告)日: | 2008-04-09 |
发明(设计)人: | 黄庆安;柳俊文;唐洁影;尚金堂 | 申请(专利权)人: | 东南大学 |
主分类号: | B81C1/00 | 分类号: | B81C1/00 |
代理公司: | 南京经纬专利商标代理有限公司 | 代理人: | 陆志斌 |
地址: | 214028江苏省无*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明公开一种圆片级MEMS微流道的制造方法,包括以下步骤:利用微加工工艺在双面抛光Si圆片上制造微流道图形结构,将上述Si圆片与相同尺寸的Pyrex7740玻璃圆片进行密封键合使微流道图形结构密封形成密封真空腔体,将上述键合好的圆片在一个大气压下加热,保温,所述密封真空腔体内、外压差使软化后的玻璃形成与上述微流道图形结构相应的结构,冷却,将上述圆片在常压下退火消除应力,将上述经过退火的圆片的玻璃面与另一抛光Si圆片或玻璃圆片进行键合,形成圆片级的MEMS微流道。本发明可形成具有原始抛光表面粗糙度的Pyrex7740玻璃微流道系统,有效的提高了MEMS微流体系统中流体的流速。 | ||
搜索关键词: | 圆片级 mems 微流道 制造 方法 | ||
【主权项】:
1.一种圆片级MEMS微流道的制造方法,其特征在于,包括以下步骤:第一步,利用微加工工艺在双面抛光Si圆片上制造微流道图形结构,第二步,将上述Si圆片与相同尺寸的Pyrex7740玻璃圆片在小于1Pa的压力下进行密封键合使微流道图形结构密封形成密封真空腔体,第三步,将上述键合好的圆片在一个大气压下加热至800~890℃,保温3~5min,所述密封真空腔体内、外压差使软化后的玻璃形成与上述微流道图形结构相应的结构,冷却到20-25℃,将上述圆片在常压下退火消除应力,第四步,将上述经过退火的圆片的玻璃面与另一抛光Si圆片或玻璃圆片进行键合,形成圆片级的MEMS微流道。
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