[发明专利]氧化钛薄膜的光催化高级氧化制备方法无效
| 申请号： | 200710191038.1 | 申请日： | 2007-12-04 |
| 公开（公告）号： | CN101187003A | 公开（公告）日： | 2008-05-28 |
| 发明（设计）人： | 储成林;王如萌;浦跃朴;尹立红;董寅生;林萍华;盛晓波 | 申请（专利权）人： | 东南大学 |
| 主分类号： | C23C8/40 | 分类号： | C23C8/40;B01J21/06 |
| 代理公司： | 南京经纬专利商标代理有限公司 | 代理人： | 叶连生 |
| 地址： | 21110*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 氧化钛薄膜的光催化高级氧化制备方法是一种可在钛金属基体表面原位光催化高级氧化合成氧化钛薄膜的新方法，可在钛金属基体表面原位氧化合成氧化钛薄膜，其制备的方法为：将钛金属基体放入H2O2水溶液中，H2O2水溶液按体积百分比计：H2O25％－20％，然后在20℃－100℃温度下，用紫外光照射H2O2水溶液，通过紫外光催化H2O2分解为羟自由基(·OH)对钛金属基体进行光催化高级氧化处理，处理1h－24h后，取出样品并在丙酮和去离子水中分别超声清洗10分钟，即可在钛金属基体表面获得氧化钛薄膜。 | ||
| 搜索关键词： | 氧化 薄膜 光催化 高级 制备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种氧化钛薄膜的光催化高级氧化制备方法，其特征在于：将钛金属基体放入H2O2水溶液中，H2O2水溶液按体积百分比计：H2O2 5％-20％，然后在20℃-100℃温度下，用紫外光照射H2O2水溶液，通过紫外光催化H2O2分解为羟自由基(·OH)对钛金属基体进行光催化高级氧化处理，处理1h-24h后，取出样品并分别在丙酮和去离子水中超声清洗10分钟，即可在钛金属基体表面获得氧化钛薄膜。
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