[发明专利]单晶硅棒制造方法和单晶硅棒结构无效

专利信息
申请号: 200710192803.1 申请日: 2007-11-19
公开(公告)号: CN101235541A 公开(公告)日: 2008-08-06
发明(设计)人: 鲜于文旭;朴永洙;赵世泳;殷华湘;林赫 申请(专利权)人: 三星电子株式会社
主分类号: C30B29/06 分类号: C30B29/06;C30B29/60;H01L21/02
代理公司: 北京铭硕知识产权代理有限公司 代理人: 韩明星;邱玲
地址: 韩国京畿道水*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要: 一种制造单晶硅棒的方法可包括:在基底上形成绝缘层;在所述绝缘层中形成孔;选择性地使硅在所述孔中生长;在所述孔和所述绝缘层上形成硅层;在所述硅层上沿不是关于所述孔的径向的方向形成棒图案;通过将激光束照射到所述硅层上熔化所述硅层并在对应于所述孔的位置产生成核位置,使所述硅层结晶。根据所述方法,可形成没有缺陷的单晶硅棒。
搜索关键词: 单晶硅 制造 方法 结构
【主权项】:
1、一种制造单晶硅棒的方法,包括:在基底上形成绝缘层;在所述绝缘层中形成孔;选择性地使硅在所述孔中生长;在所述孔和所述绝缘层上形成硅层;在所述硅层上沿不是关于所述孔的径向的方向形成棒图案;通过将激光束照射到所述硅层上熔化所述硅层并在对应于所述孔的位置产生成核位置,使所述硅层结晶。
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