[发明专利]传输和加工衬底的装置及方法有效
申请号: | 200710192971.0 | 申请日: | 2007-09-19 |
公开(公告)号: | CN101150051A | 公开(公告)日: | 2008-03-26 |
发明(设计)人: | T·布卢克;K·P·费尔贝恩;M·S·巴恩斯;C·T·莱恩 | 申请(专利权)人: | 因特瓦克公司 |
主分类号: | H01L21/00 | 分类号: | H01L21/00;H01L21/67;H01L21/677 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人: | 王永建 |
地址: | 美国加*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 本发明涉及一种用于传输和加工衬底包括晶片的装置和方法,以与现在使用的系统相比,在合理的成本的情况下有效地提高生产能力。关键因素是使用了沿着加工室侧面的传输室,用于通过装载锁将衬底供给到受控气氛中,然后使衬底沿着作为到达加工室的路径的传输室行进,然后在加工室中加工之后将衬底转移出受控气氛。 | ||
搜索关键词: | 传输 加工 衬底 装置 方法 | ||
【主权项】:
1.一种衬底加工系统,包括:进入室,用于将独立的衬底从大气环境供给到受控环境中;退出室,用于将衬底从受控环境供给到大气环境中;衬底转移室,其位于所述受控环境内,以在所述进入室接收衬底并沿着所述衬底转移室转移衬底;多个加工室,沿着所述衬底转移室设置,用于加工衬底,所述衬底转移室在所述加工室之间提供线性路径;支撑臂,在沿着所述衬底转移室行进期间以及在从所述进入室到所述加工室传送期间用来运送衬底;第一驱动器,作用于所述衬底转移室内的支撑臂上,以使所述支撑臂线性运动;以及第二驱动器,作用于所述衬底转移室内的所述支撑臂上,以利用线性运动和旋转运动的结合将所述支撑臂从所述衬底转移室转移进至少一个加工室;所述转移室提供一个轨道,以在加工之后将衬底重新引导进所述退出室从而转移返回到大气环境。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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