[发明专利]具有对准标记的图案模板及其制造方法有效
申请号: | 200710194762.X | 申请日: | 2007-12-03 |
公开(公告)号: | CN101201538A | 公开(公告)日: | 2008-06-18 |
发明(设计)人: | 赵恩亨;左圣熏;孙镇昇;李斗铉;金海成 | 申请(专利权)人: | 三星电子株式会社 |
主分类号: | G03F1/14 | 分类号: | G03F1/14;G03F1/00;G03F7/00;G03F9/00;H01L23/544 |
代理公司: | 北京铭硕知识产权代理有限公司 | 代理人: | 郭鸿禧;邱玲 |
地址: | 韩国京畿道*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | 本发明提供了一种图案模板及其制造方法,该图案模板包括柔性基底、形成在柔性基底上并包括图案的模板模子和对准标记,对准标记的折射率大于模板模子的折射率。通过提供包括图案区的主模板、在图案区涂覆用于模子的树脂、通过在用于模子的树脂上安装柔性板并通过照射UV射线固化用于模子的树脂来形成模板模子、将模板模子与主模板分离、在模板模子上涂覆薄的金属膜并在模板模子的两侧均形成对准标记,来制造该图案模板。 | ||
搜索关键词: | 具有 对准 标记 图案 模板 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
1.一种图案模板,包括:柔性基底;模板模子,形成在柔性基底上,模板模子具有形成在其上的图案;对准标记,形成在模板模子上,对准标记的折射率大于模板模子的折射率。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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