[发明专利]曝光方法有效
| 申请号： | 200710196496.4 | 申请日： | 2007-12-04 |
| 公开（公告）号： | CN101452217A | 公开（公告）日： | 2009-06-10 |
| 发明（设计）人： | 施江林;陈峰义;周国耀 | 申请（专利权）人： | 南亚科技股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F9/00;H01L21/027 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人： | 左一平 |
| 地址： | 台湾省桃园县龟山*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种曝光方法，适用于光刻制程。首先，对一晶圆进行第一对准步骤。接着，对此晶圆进行第二对准步骤。随之，将第一对准步骤所得的结果与第二对准步骤所得的结果交互比对。之后，依据比对结果来对此晶圆进行光刻胶曝光步骤。本发明的曝光方法能够有效地改善晶圆对准的精确度。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 方法 | ||
【主权项】：
1. 一种曝光方法，适用于一光刻制程，其特征在于该方法包括：对一晶圆进行一第一对准步骤；对该晶圆进行一第二对准步骤；将该第一对准步骤所得的结果与该第二对准步骤所得的结果交互比对；以及依据比对结果来对该晶圆进行一光刻胶曝光步骤。
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