[发明专利]将等离子体参数预期值转换为腔室参数值的反应器控制无效
| 申请号： | 200710198515.7 | 申请日： | 2007-12-11 |
| 公开（公告）号： | CN101201595A | 公开（公告）日： | 2008-06-18 |
| 发明（设计）人： | 丹尼尔·J·霍夫曼;埃兹拉·罗伯特·古德 | 申请（专利权）人： | 应用材料股份有限公司 |
| 主分类号： | G05B19/04 | 分类号： | G05B19/04;H01L21/00 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 | 代理人： | 徐金国 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明涉及一种通过根据数个等离子体参数的预期值来控制数个腔室参数在等离子体反应器腔室中处理晶圆的方法。该方法包括将M等离子体参数的一组M个预期值同时转换为各个N个腔室参数的一组N值。该M个等离子体参数选自包括晶圆电压、离子密度、刻蚀速率、晶圆电流、刻蚀选择性、离子能量和离子质量的组。该N个腔室参数选自包括源功率、偏置功率、腔室压力、内磁铁线圈电流、外磁铁线圈电流、内区气体流速、外区气体流速、内区气体组成、外区气体组成的组，其中M和N是整数。该方法进一步包括将所述N个腔室参数设定为一组N个值。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子体 参数 预期 转换 反应器 控制 | ||
【主权项】：
1.一种根据数个等离子体参数的预期值来控制等离子体反应器的数个腔室参数的方法，包括：将M个等离子体参数的一组M个预期值同时转换为各个N个腔室参数的一组N个值，其中该M个等离子体参数选自包括晶圆电压、离子密度、刻蚀速率、晶圆电流、刻蚀选择性、离子能量和离子质量的组，该N个腔室参数选自包括源功率、偏置功率、腔室压力、内磁铁线圈电流、外磁铁线圈电流、内区气体流速、外区气体流速、内区气体组成、外区气体组成的组，其中M和N是整数；以及将所述N个腔室参数设定为一组N个值。
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