[发明专利]热汽泡式喷墨头芯片结构及其制造方法无效

专利信息
申请号: 200710198629.1 申请日: 2007-12-11
公开(公告)号: CN101456282A 公开(公告)日: 2009-06-17
发明(设计)人: 李致淳;赖伟夫;李明玲 申请(专利权)人: 国际联合科技股份有限公司
主分类号: B41J2/14 分类号: B41J2/14;B41J2/16;B41J2/05
代理公司: 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 代理人: 寿 宁;张华辉
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 发明是有关于一种热汽泡式喷墨头芯片结构及其制造方法。该热汽泡式喷墨头芯片结构,包括一基底层、一形成于基底层之上的氧化层和驱动电路,且驱动电路被氧化层所包围、一形成于驱动电路上方的介电层,并暴露驱动电路中的源极和漏极、一缓冲层形成于介电层的上方并覆盖驱动电路的源极和漏极、一形成于缓冲层之上并具有一加热区域的电阻层、一局部覆盖于电阻层上的导电层、以及一形成于导电层以及加热区域上方的保护层。本发明在介电层及电阻层之间加入一缓冲层,可以缓冲电阻层所产生的瞬间高温,减少加热区域下方的介电层所承受的热冲击效应,进而增加喷墨头芯片的使用寿命。
搜索关键词: 汽泡 喷墨 芯片 结构 及其 制造 方法
【主权项】:
1、一种热汽泡式喷墨头芯片结构,其特征在于其包括:一基底层;一氧化层,形成于该基底层之上;至少一驱动电路,形成于该基底层之上,并被该氧化层所包围,其中该驱动电路包括一源极、一漏极与一栅极;一介电层,形成于该驱动电路之上,该介电层具有多数个开口,该些开口暴露出该源极与该漏极;一缓冲层,形成于该介电层之上并覆盖该源极和该漏极,并与该源极和该漏极电性连接;一电阻层,形成于该缓冲层之上,该电阻层具有至少一加热区域,该电阻层延伸至该源极和该漏极的上方,且该电阻层分别通过该缓冲层与该源极和该漏极电性连接;以及一导电层,形成于该电阻层之上,并暴露出该加热区域。
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