[发明专利]图案化磁介质、磁记录介质和磁存储装置无效
| 申请号： | 200710199751.0 | 申请日： | 2007-12-12 |
| 公开（公告）号： | CN101206872A | 公开（公告）日： | 2008-06-25 |
| 发明（设计）人： | 岩崎富生 | 申请（专利权）人： | 株式会社日立制作所 |
| 主分类号： | G11B5/64 | 分类号： | G11B5/64;G11B5/66;G11B5/72 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 王永刚 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明的课题是提供可靠性和功能良好的图案化磁介质、磁记录介质和磁存储装置。在具备基板和在上述基板的一个主面侧形成的软磁性基底膜、非磁性膜、中间膜图案化磁介质、记录层、与上述记录层接触地形成的第一保护膜、与上述第一保护膜接触地形成的第二保护膜、与上述第二保护膜接触地形成的第三保护膜，且上述记录层具有磁性膜与非磁性材料的凹凸图案接触地形成的图案结构的图案化磁介质中，将上述第一保护膜和上述第三保护膜的主构成材料定为碳，将上述第二保护膜定为涂敷膜。由于碳与涂敷膜的密接性高，故可防止剥离，涂敷膜作为缓冲材料吸收冲击力。 | ||
| 搜索关键词： | 图案 介质 记录 存储 装置 | ||
【主权项】：
1.一种图案化磁介质，其特征在于，具备：在基板上的一个主面侧形成的软磁性膜、非磁性膜、中间膜；具有凹凸图案的图案结构的记录层；在上述记录层上沿该图案结构形成的、主构成材料是碳的第一保护膜；以及在上述第一保护膜上形成的、作为涂敷膜的第二保护膜。
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