[发明专利]根据特征间距进行图案分解的方法有效
| 申请号： | 200710199970.9 | 申请日： | 2007-09-13 |
| 公开（公告）号： | CN101271483A | 公开（公告）日： | 2008-09-24 |
| 发明（设计）人： | 朴正哲 | 申请（专利权）人： | ASML蒙片工具有限公司 |
| 主分类号： | G06F17/50 | 分类号： | G06F17/50 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 王新华 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 公开了一种分解包含待印刷在晶片上的特征的目标图案的方法，包括步骤：(a)限定表示在内半径中为正值和在外半径中为负值的函数的核；(b)使用多个像素限定所述特征；(c)在多个像素的第一像素上设置所述核；(d)确定所述核在所述多个像素中每个像素的位置处的值，存储所述多个像素中每个像素的所述值，以限定所述多个像素中每个像素的像素值；(e)将与所述多个像素中的指定像素有关的预存储值同步骤(d)中确定的该指定像素的所述像素值相加；(f)在所述多个像素中的另一像素上设置所述核，重复步骤(d)－(f)直至所述多个像素中的每个像素被处理；和(g)根据该指定像素的像素值确定在第一图案或第二图案中所述像素的位置。 | ||
| 搜索关键词： | 根据 特征 间距 进行 图案 分解 方法 | ||
【主权项】：
1、一种将包含待印刷在晶片上的特征的目标图案分解成多个图案的方法，包括步骤：(a)限定表示在内半径中为正值和在外半径中为负值的函数的核；(b)使用多个像素限定所述特征；(c)将所述核设置在所述多个像素的第一像素上；(d)确定所述核在所述多个像素中每个像素的位置处的值，存储对应所述多个像素中每个像素的所述值，以限定对应所述多个像素中每个像素的像素值；(e)将与所述多个像素中的指定像素有关的预存储值同步骤(d)中确定的该指定像素的所述像素值相加；(f)在所述多个像素中的另一像素上设置所述核，重复步骤(d)-(f)，直至所述多个像素中的每个像素被处理完；和(g)根据该指定像素的像素值确定在第一图案或第二图案中所述像素的位置。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于ASML蒙片工具有限公司，未经ASML蒙片工具有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200710199970.9/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：有直接接触散热片的微电子封装及其制造方法
- 下一篇：移动通道
