[发明专利]具有入口气室的固体源容器有效
申请号: | 200710199985.5 | 申请日: | 2007-10-19 |
公开(公告)号: | CN101245445A | 公开(公告)日: | 2008-08-20 |
发明(设计)人: | C·M·伯特彻;T·A·斯泰德尔 | 申请(专利权)人: | 气体产品与化学公司 |
主分类号: | C23C16/44 | 分类号: | C23C16/44;H01L21/205;H01L21/365 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 崔幼平 |
地址: | 美国宾夕*** | 国省代码: | 美国;US |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明关于具有入口气室的固体源容器,用于从容器中输送一前体流体的容器,包括:一具有一上部容积和一下部容积的内部容积,其中该两个容积是连接的并且该下部容积储存前体;一盖,包括一流体入口将运载气体引导至该容器中,一“T”型流体出口,一具有上部凸缘的侧壁,其中该上部凸缘与该盖接触;一隔离器插入该盖和侧壁中间,其中该侧壁紧邻该上部凸缘设置,并且将该内部容积分隔成一上部容积和一下部容积;和一入口气室与该具有气室腔体的流体入口连接,该流体入口朝着该隔离器开口引导运载气体通过该隔离器并朝着该前体。还公开了一种使用该设备的方法。 | ||
搜索关键词: | 具有 口气 固体 容器 | ||
【主权项】:
1.用于从盛放于容器中的前体材料输送含前体流体流的容器,该容器包括:内部容积,其中该内部容积被分隔成一上部容积和一下部容积,其中该上部容积和该下部容积是流体连通的并且该下部容积盛放该前体材料;盖,包括一流体入口其将至少一运载气体引导至该容器的内部容积,一流体出口,和一个内部凹槽,其中该上部容积的至少一部分位于该内部凹槽中;侧壁,具有一上部凸缘,其中该上部凸缘的至少一部分与该盖接触;隔离器,插入该盖和该侧壁之间,其中该隔离器处于该上部凸缘的附近并且将该内部容积分隔成上部容积和下部容积;和入口气室,与该流体入口流体连通,该入口气室具有一气室腔体朝着该隔离器开口以引导该至少一运载气体通过该隔离器并朝向该前体材料。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于气体产品与化学公司,未经气体产品与化学公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200710199985.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:自动变速器的润滑装置
- 下一篇:儿童三轮车
- 同类专利
- 专利分类
C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的