[发明专利]N沟道大功率半导体恒电流二极管及其制作方法无效

专利信息
申请号: 200710200056.1 申请日: 2007-01-15
公开(公告)号: CN101005100A 公开(公告)日: 2007-07-25
发明(设计)人: 刘桥 申请(专利权)人: 贵州大学
主分类号: H01L29/861 分类号: H01L29/861
代理公司: 贵阳中新专利商标事务所 代理人: 刘楠
地址: 5500*** 国省代码: 贵州;52
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摘要: 发明公开了一种N沟道大功率半导体恒电流二极管及其制作方法,利用结型场效应管JFET作为小电流恒流源,向担任电流扩展的双极型晶体管提供恒定基极电流,经过双极型晶体管成比例(线性)放大(扩展)成为大恒定电流。本发明的特点是通过半导体器件结构的物理过程实现恒流特性,不是集成电路和电子模块(组件)的技术。本发明具有利用半导体物理特性、实现恒流电路的功能,而且结构简单,采用电流扩展方法可以直接恒流驱动负载的优点,表现于现有二极管的一些技术特征,也可以作为恒电流电源直接驱动负载。
搜索关键词: 沟道 大功率 半导体 电流 二极管 及其 制作方法
【主权项】:
1.一种N沟道大功率半导体恒电流二极管制作方法,其特征在于:在N型半导体衬底(2)上扩散出一个P型半导体区域(6)和一个P型半导体区域(3),在P型半导体区域(6)和P型半导体区域(3)之间形成N型半导体(4)作为N型沟道结型场效应管JFET;在N型半导体(4)沟道上扩散N+型半导体区域(7),将P型半导体区域(3)、N+型半导体区域(7)、P型半导体区域(6)通过金属电极(8)互连,形成小电流恒流源;在P型半导体区域(3)上扩散出N+型半导体(5),N+型半导体(5)连接金属电极(9)作为负极,N型半导体衬底(2)下面连接金属电极(1)作为正极。
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