[发明专利]隔离子及场致发射显示器件的制造方法无效
申请号: | 200710300734.1 | 申请日: | 2007-12-28 |
公开(公告)号: | CN101217087A | 公开(公告)日: | 2008-07-09 |
发明(设计)人: | 张莉 | 申请(专利权)人: | 彩虹集团公司 |
主分类号: | H01J9/24 | 分类号: | H01J9/24;H01J9/02;H01J9/00;H01J31/12 |
代理公司: | 西安通大专利代理有限责任公司 | 代理人: | 陆万寿 |
地址: | 71202*** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | 本发明涉及场发射器件的生产工艺,尤其是隔离子及场致发射显示器件的制造方法,其特征在于,包括下列步骤,a.清洁制作阴极电极的平板玻璃;b.以权利要求1至4中任意一种方法在玻璃表面上制作隔离子;c.在形成隔离子的玻璃上制作阴极电极接触面;d.在玻璃上制作形成阴极电极和栅极电极;e.在阴极电极上制作出发射材料,与涂敷有荧光粉、黑条、和阳极电极的另一玻璃基板进行封接。本发明避免了制作隔离子时的复杂安装工艺,解决了隔离子放置存在对位不准的问题及隔离子会画质造成的影响,并且使原来分立的隔离子装配问题得到了解决,降低了工艺难度,使得器件的性能更加可靠。 | ||
搜索关键词: | 隔离 发射 显示 器件 制造 方法 | ||
【主权项】:
1.一种隔离子的制造方法,其特征在于,包括如下步骤:a、清洁制作阴极电极的平板玻璃;b、在玻璃上涂覆一层感光胶,并进行刻蚀,形成隔离子并剥离剩余的感光胶;c、在此结构上再涂覆一层感光胶,通过掩模版进行第二次曝光,经过曝光刻蚀后,剥离剩余的感光胶。
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