[发明专利]光刻系统、器件制造方法、定点数据优化方法及产生设备

摘要

本发明公开了一种光刻系统、一种器件制造方法、一种定点数据优化方法和一种生产设备。所述定点数据优化方法包括产生用于控制无掩模系统中的独立可控元件阵列的元件动作的优化的定点数据。所述优化基于器件结构和/或剂量图案的估计，所述估计可以利用一种或多种下列因素：投影系统的低通特性、照射系统的构造以及工艺窗口属性。

主权项

1.一种产生优化定点数据的方法，其中所述优化定点数据用于控制被配置用于调制无掩模光刻系统中的辐射束的独立可控元件阵列的元件动作，所述无掩模光刻系统具有被配置用于调节辐射束的照射系统以及被配置用于将经过调制的辐射束投影到衬底上的投影系统，所述方法包括步骤：a)获得起始定点数据；b)估计将起始定点数据应用到被配置用于调制辐射束的独立可控元件阵列上而得到的器件结构；c)将在步骤(b)中估计出的器件结构与待形成在衬底上的目标器件结构相比较、以确定器件结构误差；d)修改定点数据，并采用经过修改的定点数据代替起始定点数据、根据需要重复步骤(b)和(c)，直到器件结构误差落到预定阈值以下为止；以及e)输出器件结构误差在预定阈值之下时的经过修改的定点数据作为优化的定点数据，由此基于经过修改的定点数据激励独立可控元件阵列。