[发明专利]一种采用传送带结构的光刻机硅片台双台交换系统无效

专利信息
申请号: 200710303648.6 申请日: 2007-12-21
公开(公告)号: CN101201555A 公开(公告)日: 2008-06-18
发明(设计)人: 朱煜;张鸣;汪劲松;徐登峰;尹文生;胡金春;杨开明;李广;闵伟;段广洪 申请(专利权)人: 清华大学
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;H01L21/68
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 100084北京市100*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 一种采用传送带结构的光刻机硅片台双台交换系统,属于半导体制造装备技术领域。本发明含有运行于预处理工位的硅片台和运行于曝光工位的硅片台;在预处理工位和曝光工位上分别设有一个H型驱动单元,所述的H型驱动单元由双侧X向直线电机以及Y向直线电机组成,用于驱动硅片台在预处理工位和曝光工位上作X方向和Y方向运动;该系统在基台两侧分别安装有传送带,在传送带的侧面固定联结有对接滑块,通过传送带和对接滑块,将硅片台1由预处理工位过渡到曝光工位。本发明由于采用传送带结构,有效避免了专利ZL03156436.4双台交换系统导轨精密对接的问题,具有操作维护简单,外形尺寸较小等特点。
搜索关键词: 一种 采用 传送带 结构 光刻 硅片 台双台 交换 系统
【主权项】:
1.一种采用传送带结构的光刻机硅片台双台交换系统,该系统含有运行于预处理工位(13)的硅片台(1)和运行于曝光工位(15)的硅片台(1),所述的两个硅片台设置在一基台(11)上,并通过气浮轴承悬浮在基台(11)表面,在预处理工位和曝光工位上分别设有一个H型驱动单元(3),所述的H型驱动单元(3)由双侧X向直线电机(5)以及Y向直线电机(7)组成,用于驱动所述硅片台在预处理工位和曝光工位上作X方向和Y方向运动,硅片台1与H型驱动单元3之间通过真空轴承吸住,其特征在于:在基台(11)两侧分别安装有传送带(9),在传送带的侧面固定联结有对接滑块(10),对接滑块(10)下面安装有直线电机,硅片台与所述对接滑块之间通过真空轴承吸住。
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