[发明专利]光学元件的制造方法有效
| 申请号： | 200710305780.0 | 申请日： | 2007-10-09 |
| 公开（公告）号： | CN101231461A | 公开（公告）日： | 2008-07-30 |
| 发明（设计）人： | 三村广二;住吉研 | 申请（专利权）人： | NEC液晶技术株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00;G02F1/1335;H01J17/49 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 王波波 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种依据本发明的光学元件制造方法，包括：在透明光敏树脂上设置掩模；通过所述掩模向所述透明光敏树脂施加曝光光，使所述透明树脂形成图案，以形成透明层；通过用黑色可固化树脂填充所述透明层中的缝隙，来形成光吸收层；以及用所述曝光光以一定角度照射掩模的掩模表面。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 元件 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种光学元件制造方法，包括：在透明光敏树脂上设置掩模；通过所述掩模向所述透明光敏树脂施加曝光光，使所述透明树脂形成图案，以形成透明层；通过用黑色可固化树脂填充所述透明层中的缝隙，来形成光吸收层；以及用所述曝光光以一定角度照射所述掩模的掩模表面；其中所述透明层和所述光吸收层交替设置在平面中，并且由所述光吸收层来限制透射通过所述透明层的光在光发射方向上的范围。
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