[实用新型]真空离子镀铬陶瓷器有效

专利信息
申请号: 200720056508.9 申请日: 2007-09-04
公开(公告)号: CN201087178Y 公开(公告)日: 2008-07-16
发明(设计)人: 林敏 申请(专利权)人: 林敏
主分类号: C04B41/88 分类号: C04B41/88
代理公司: 佛山市南海智维专利代理有限公司 代理人: 梁国杰
地址: 528200广东省佛山市南海*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 实用新型特指一种真空离子镀铬陶瓷器。包括有陶瓷质基体和铬层,在陶瓷质基体上镀有过渡元素金属形成的过渡层,铬层镀于过渡层上。本实用新型的有益效果及优点在于:1:能长期保持美丽的外观,不会因氧化而产生斑点。2:选用陶瓷作为基体的材料。成本造价低,非常有市场竞争力。3:产品的铬层不会脱落。
搜索关键词: 真空 离子 镀铬 陶瓷器
【主权项】:
1.真空离子镀铬陶瓷器,包括有陶瓷质基体(1)和铬层(2),其特征在于:在陶瓷质基体(1)上镀有过渡元素金属形成的过渡层(3),铬层(2)镀于过渡层(3)上。
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