[实用新型]真空离子镀铬陶瓷器有效
申请号: | 200720056508.9 | 申请日: | 2007-09-04 |
公开(公告)号: | CN201087178Y | 公开(公告)日: | 2008-07-16 |
发明(设计)人: | 林敏 | 申请(专利权)人: | 林敏 |
主分类号: | C04B41/88 | 分类号: | C04B41/88 |
代理公司: | 佛山市南海智维专利代理有限公司 | 代理人: | 梁国杰 |
地址: | 528200广东省佛山市南海*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本实用新型特指一种真空离子镀铬陶瓷器。包括有陶瓷质基体和铬层,在陶瓷质基体上镀有过渡元素金属形成的过渡层,铬层镀于过渡层上。本实用新型的有益效果及优点在于:1:能长期保持美丽的外观,不会因氧化而产生斑点。2:选用陶瓷作为基体的材料。成本造价低,非常有市场竞争力。3:产品的铬层不会脱落。 | ||
搜索关键词: | 真空 离子 镀铬 陶瓷器 | ||
【主权项】:
1.真空离子镀铬陶瓷器,包括有陶瓷质基体(1)和铬层(2),其特征在于:在陶瓷质基体(1)上镀有过渡元素金属形成的过渡层(3),铬层(2)镀于过渡层(3)上。
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