[实用新型]研磨液清洗装置无效
申请号: | 200720069510.X | 申请日: | 2007-04-24 |
公开(公告)号: | CN201046545Y | 公开(公告)日: | 2008-04-16 |
发明(设计)人: | 刘宇龙;李春;李宁;董兵超 | 申请(专利权)人: | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
主分类号: | B24B29/00 | 分类号: | B24B29/00;B24B55/02;H01L21/304 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 | 代理人: | 逯长明 |
地址: | 201203*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本实用新型提供了一种研磨机台的研磨液清洗装置,所述研磨机台包括研磨垫和研磨头,其特征在于:所述清洗装置位于研磨垫旁边,环绕所述研磨垫布置,所述清洗装置与水源相连,边缘具有两个以上出水孔,所述出水孔的高度与研磨垫边缘高度对应。本实用新型能够及时去除研磨液残留物。 | ||
搜索关键词: | 研磨 清洗 装置 | ||
【主权项】:
1.一种研磨机台的研磨液清洗装置,所述研磨机台包括研磨垫和研磨头,其特征在于:所述清洗装置位于研磨垫旁边,环绕所述研磨垫布置,所述清洗装置与水源相连,侧面具有两个以上出水孔,所述出水孔的高度与研磨垫边缘的高度对应。
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