[实用新型]一种可避免漏水误报警的抛光设备有效
申请号: | 200720070531.3 | 申请日: | 2007-06-01 |
公开(公告)号: | CN201089110Y | 公开(公告)日: | 2008-07-23 |
发明(设计)人: | 闫海勇 | 申请(专利权)人: | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
主分类号: | B24B29/02 | 分类号: | B24B29/02;H01L21/304 |
代理公司: | 上海智信专利代理有限公司 | 代理人: | 王洁 |
地址: | 2012*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本实用新型涉及一种可避免漏水误报警的抛光设备。现有抛光设备中因罩体上的开口过大而使从清洗通道或剖光模块溅出的水触发漏水误报警。本实用新型的抛光设备包括相互连接且分别用于抛光晶圆的抛光模块和用于清洗抛光后晶圆的清洗模块,该清洗模块包括罩体、设置在该体底部用于侦测清洗模块是否漏水的漏水侦测单元、倾斜设置在罩体中且延伸至罩体外的清洗通道以及一设置在清洗通道底部用于将清洗通道的水引至抛光设备外的排水单元,其中,该罩体对应清洗通道还设置有面积大于清洗通道的开口,该罩体的开口处还覆设有一具有恰容许晶圆进入清洗通道的缺口的挡板。采用本实用新型可避免漏水误报警的产生。 | ||
搜索关键词: | 一种 避免 漏水 报警 抛光 设备 | ||
【主权项】:
1.一种可避免漏水误报警的抛光设备,其包括相互连接且分别用于抛光晶圆的抛光模块和用于清洗抛光后晶圆的清洗模块,该清洗模块包括一罩体、一设置在该罩体底部用于侦测清洗模块是否漏水的漏水侦测单元、一倾斜设置在罩体中且延伸至罩体外的清洗通道以及一设置在清洗通道底部用于将清洗通道的水引至抛光设备外的排水单元,其中,该罩体对应清洗通道设置有一面积大于清洗通道的开口,其特征在于,该罩体的开口处覆设有一具有恰容许晶圆进入清洗通道的缺口的挡板。
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