[实用新型]全方位立体虚像成像设备无效

专利信息
申请号: 200720071982.9 申请日: 2007-07-02
公开(公告)号: CN201075163Y 公开(公告)日: 2008-06-18
发明(设计)人: 曾文捷 申请(专利权)人: 曾文捷
主分类号: G03B21/28 分类号: G03B21/28;G02B5/08;G03B21/54;G02B17/06;A63J5/02
代理公司: 上海恩田旭诚知识产权代理有限公司 代理人: 刘峰
地址: 200240上海市闵行区*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 实用新型公开了一种全方位立体虚像成像设备,包括一成像装置,用于提供实像像源;一框架,用于以一定倾斜角度设置反射膜;所述反射膜,由无色透明介质形成,具有部分透明、部分反射光学特性,倾斜设置在所述成像装置的光路上;所述框架为多棱锥形,用于以相同倾斜角度多方位设置多个所述反射膜。所述成像装置为多个投影仪或平板显示设备或CRT或灯箱,设置在与多个所述反射膜相对应位置。本实用新型由于采用了特殊结构、形状的框架,在多个方位上同时倾置了多个反射膜,配合以与反射膜位置对应的多个实像源,获得了立体感强、可供多角度同时观看的立体虚像,使整台设备获得了逼真的视觉效果,可以广泛应用在广告、展示、演艺、会议、宣传等领域。
搜索关键词: 全方位 立体 虚像 成像 设备
【主权项】:
1.一种全方位立体虚像成像设备,包括:一成像装置,用于提供实像像源;一框架,用于以一定倾斜角度设置反射膜;所述反射膜,由无色透明介质形成,具有部分透明、部分反射光学特性,倾斜设置在所述成像装置的光路上;其特征在于:所述框架为多棱锥形,用于以相同倾斜角度多方位设置多个所述反射膜。
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