[实用新型]浅药囊抛光布无效
申请号: | 200720095669.9 | 申请日: | 2007-04-02 |
公开(公告)号: | CN201023216Y | 公开(公告)日: | 2008-02-20 |
发明(设计)人: | 田鸿义 | 申请(专利权)人: | 天津市克鲁格科工贸有限公司 |
主分类号: | B24D11/00 | 分类号: | B24D11/00 |
代理公司: | 天津盛理知识产权代理有限公司 | 代理人: | 王融生 |
地址: | 300210天*** | 国省代码: | 天津;12 |
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摘要: | 一种浅药囊抛光布,在基材上面是药囊层,药囊层上布满上开口的药囊,药囊为水滴状,药囊从表面到底部深度为0.2-0.3毫米。药囊层的材料是聚氨酯泡沫塑料。药囊从表面到底部深度0.2毫米。本实用新型效果是:使用这种浅药囊抛光布,加工出来的抛光垫可有效的提高晶片背面的光洁度。本实用新型是技术方案是缩短抛光垫存药的药囊。实施方法为削掉或磨掉药囊多余的部分使药囊缩短,从而在加入还原剂后使药剂中的氯完全快速的中和,提高其表面的光洁度。 | ||
搜索关键词: | 药囊 抛光 | ||
【主权项】:
1.一种浅药囊抛光布,在基材上面是药囊层,其特征在于:药囊层上布满上开口的药囊,药囊为水滴状,药囊从表面到底部深度为0.2-0.3毫米。
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