[实用新型]为使光罩保持洁净的系统无效
申请号: | 200720127314.3 | 申请日: | 2007-08-10 |
公开(公告)号: | CN201134420Y | 公开(公告)日: | 2008-10-15 |
发明(设计)人: | 廖莉雯 | 申请(专利权)人: | 廖莉雯 |
主分类号: | H01L21/673 | 分类号: | H01L21/673;H01L21/677;G03F1/00;G03F7/20;B65D81/18 |
代理公司: | 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 | 代理人: | 寿宁;张华辉 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 本实用新型是关于一种为使光罩保持洁净的系统,特别是指一种可长时间、且效果佳的光罩洁净度保持系统,其包含有至少一装置、至少一可选择性启闭的移转容器,其中移转容器可用于承载光罩,而装置可用于承载前述移转容器,且前述装置具有至少一充气单元与至少一排气单元,而前述移转容器具有对应前述装置充、排气单元的进气单元与出气单元,通过本实用新型系统的开发,能确保移转容器内环境的洁净,减少光罩表面微粒附着与雾化现象,同时可进一步加速移转容器硫化物和氨气的释出,以有效控制移转容器内的环境,而能延缓光罩被雾化的时间,以提升光罩储存时的洁净度。 | ||
搜索关键词: | 使光罩 保持 洁净 系统 | ||
【主权项】:
1、 一种为使光罩保持洁净的系统,其特征在于其包含:至少一移转容器,其具有一可选择性启闭的容置空间,该容置空间可供设置一光罩,且移转容器上设有至少一连通容置空间与外部的进气单元,移转容器上另设有至少一连通容置空间与外部的出气单元,其中进气单元与出气单元具有可防止移转容器闭合时容置空间内气体溢出的选择性气密功能;至少一装置,其具有至少一可承载前述移转容器的容置结构,容置结构具有至少一对应移转容器进气单元的充气单元,且容置结构并具有至少一对应移转容器出气单元的排气单元;使得移转容器与光罩相邻容置空间环境内的气体形成一种循环流动,让干净气体可不断的注入该与光罩相邻的容置空间、并且不断的排出,令该与光罩相邻的容置空间形成正压,可防止外部有害物质进入前述的容置空间内,同时带走前述容置空间内的有害物质,进一步得控制该容置空间的环境条件。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造