[实用新型]抗吸附的聚光膜无效
| 申请号： | 200720141410.3 | 申请日： | 2007-03-14 |
| 公开（公告）号： | CN201017056Y | 公开（公告）日： | 2008-02-06 |
| 发明（设计）人： | 伍清钦 | 申请（专利权）人： | 迎辉科技股份有限公司 |
| 主分类号： | G02B6/00 | 分类号： | G02B6/00;F21V5/02 |
| 代理公司： | 中国商标专利事务所有限公司 | 代理人： | 万学堂 |
| 地址： | 台湾省台*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种抗吸附的聚光膜，包括一片水平透光基板，及多数条可透光的第一与第二聚光柱。第一与第二聚光柱是左右相邻且前后延伸地突设于该基板顶面，且第一聚光柱高度会较第二聚光柱高0.1μm以上，而部分第一聚光柱高度会沿其长度方向高低起伏，且其最高点与最低点的高度差大于1μm，而二个相邻最高点间距大于50μm。透过第一聚光柱沿其长度方向高低起伏的设计，可有效降低聚光膜叠合时的吸附现象，进而使条状吸附白线与条状白线所构成的团状白污较不明显。 | ||
| 搜索关键词： | 吸附 聚光 | ||
【主权项】：
1.一种抗吸附的聚光膜，包括一片水平透光基板，及多数条左右相邻且前后延伸地突设于该基板顶面的第一聚光柱与第二聚光柱，其特征在于：第一聚光柱高度会较第二聚光柱高0.1μm以上，且部分第一聚光柱高度会沿其长度方向高低起伏，而最高点与最低点的高度差大于1μm，且每一条第二聚光柱的两个相邻突起高点间的间距大于50μm。
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