[实用新型]旋转喷射等离子表面处理装置有效

专利信息
申请号: 200720144272.4 申请日: 2007-10-26
公开(公告)号: CN201119113Y 公开(公告)日: 2008-09-17
发明(设计)人: 姚志旭;朱伟锋;佘宣东 申请(专利权)人: 姚志旭;朱伟锋;佘宣东;周巍
主分类号: H05H1/34 分类号: H05H1/34
代理公司: 上海浦一知识产权代理有限公司 代理人: 丁纪铁
地址: 200135上海市浦东*** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 实用新型公开了一种旋转喷射等离子表面处理装置,包括:地电极04,且该地电极04的内部为一空心的腔体,并且与一主动电机01传动连接在一起;在所述地电极04底部腔壁的中轴线处设有喷嘴09,并且该喷嘴09的中心线与所述中轴线间具有一夹角;一正电极09与电源相连,且该正电极09固定在所述地电极04腔体内的中轴线处,而且该正电极09的底部与所述地电极04的底部腔壁的距离为该正电极09顶部直径的1~2倍。通过该装置可产生高等离子密度、无静电感应、处理面积大,且等离子气体温度较低的等离子体射流,从而能够达到更好的工件表面处理效果,提高处理效率。
搜索关键词: 旋转 喷射 等离子 表面 处理 装置
【主权项】:
1、一种旋转喷射等离子表面处理装置,其特征在于,包括:地电极(04),且该地电极(04)的内部为一空心的腔体,并且该地电极(04)与一主动电机(01)传动连接在一起;在所述地电极(04)底部腔壁的中轴线处设有喷嘴(09),并且该喷嘴(09)的中心线与所述中轴线间具有一夹角;一正电极(09)与电源相连,且该正电极(09)固定在所述地电极(04)腔体内的中轴线处,而且该正电极(09)的底部与所述地电极(04)的底部腔壁的距离为该正电极(09)顶部直径的1~2倍。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于姚志旭;朱伟锋;佘宣东;周巍,未经姚志旭;朱伟锋;佘宣东;周巍许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200720144272.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top