[实用新型]旋转喷射等离子表面处理装置有效
申请号: | 200720144272.4 | 申请日: | 2007-10-26 |
公开(公告)号: | CN201119113Y | 公开(公告)日: | 2008-09-17 |
发明(设计)人: | 姚志旭;朱伟锋;佘宣东 | 申请(专利权)人: | 姚志旭;朱伟锋;佘宣东;周巍 |
主分类号: | H05H1/34 | 分类号: | H05H1/34 |
代理公司: | 上海浦一知识产权代理有限公司 | 代理人: | 丁纪铁 |
地址: | 200135上海市浦东*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种旋转喷射等离子表面处理装置,包括:地电极04,且该地电极04的内部为一空心的腔体,并且与一主动电机01传动连接在一起;在所述地电极04底部腔壁的中轴线处设有喷嘴09,并且该喷嘴09的中心线与所述中轴线间具有一夹角;一正电极09与电源相连,且该正电极09固定在所述地电极04腔体内的中轴线处,而且该正电极09的底部与所述地电极04的底部腔壁的距离为该正电极09顶部直径的1~2倍。通过该装置可产生高等离子密度、无静电感应、处理面积大,且等离子气体温度较低的等离子体射流,从而能够达到更好的工件表面处理效果,提高处理效率。 | ||
搜索关键词: | 旋转 喷射 等离子 表面 处理 装置 | ||
【主权项】:
1、一种旋转喷射等离子表面处理装置,其特征在于,包括:地电极(04),且该地电极(04)的内部为一空心的腔体,并且该地电极(04)与一主动电机(01)传动连接在一起;在所述地电极(04)底部腔壁的中轴线处设有喷嘴(09),并且该喷嘴(09)的中心线与所述中轴线间具有一夹角;一正电极(09)与电源相连,且该正电极(09)固定在所述地电极(04)腔体内的中轴线处,而且该正电极(09)的底部与所述地电极(04)的底部腔壁的距离为该正电极(09)顶部直径的1~2倍。
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